WärmekammernGradgenaue Behandlung

Für schonende thermische Behandlung von Bauteilen in der Elektronik- und Halbleiterfertigung. Inertgasatmosphäre (N₂, Formiergas). Bis 600 °C.

600°CMax. Temperatur
InertgasN₂ / Formiergas
HalbleiterAnwendung
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Wärmekammern

Einsatzbereiche

  • Elektronische Leistungsbauelemente
  • Halbleiter-Wafer (250–420 °C)
  • Tempern nach Ionenimplantation
  • Prozesse unter Inertgas
Optionen
  • Aluminium/Edelstahl-Schubladen
  • Mehrkammerausführungen
  • Programmregler bis 20 Programme
  • Mehrkanal-Grafikschreiber
  • Begehbare Modelle
  • Doppelmagnetventile N₂/O₂
Kurzinfo
Halbleiter400×1000×600 mm450 °C · 8,5 kW
ProzessrohrØ250×750 mm550 °C · 10 kW · Schnellkühlung
AtmosphäreN₂ / Formiergas
RegelungPID + Programmlogik

Branchen

Halbleiterfertigung Elektronik Leistungsbauelemente Forschung Inertgas

Häufige Fragen

Stickstoff und Formiergas. Doppelmagnetventile steuern die Gaszufuhr.

Bis 600 °C. Halbleiter typisch 250–420 °C.

Bis 20 Programme à 16 Segmente speicherbar.

Individuell nach Anforderung.

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Gradgenau · Inertgas · Für Elektronik und Halbleiter